
自组装单分子层的SIMS表征
2026-04-23
在薄膜制备领域,多数技术依赖精确的外部控制以实现所需的均匀性。与之不同,某些分子可利用分子内作用力,在特定表面自发形成高度有序的薄膜——即自组装单分子层(Self-Assembled Monolayers,SAMs)。SAMs为低成本、大规模制备表面功能化薄膜提供了可行路径,但对其结构、分子取向及覆盖密度的表征一直存在技术挑战。...
亚毫米缺陷无所遁形:MiniSIMS为金属涂层做“CT”
2026-04-09
在航空航天、汽车制造、精密工具等高-端制造领域,金属涂层是赋予部件耐磨性、耐腐蚀性和美观外观的关键技术。从几微米的硬质涂层到几十纳米的功能薄层,涂层的质量直接决定产品的使用寿命和性能。...
MiniSIMS在玻璃涂层快速深度剖析中的应用
2026-03-16
随着建筑节能与汽车轻量化需求的不断提升,功能化镀膜玻璃的应用日益广泛。低辐射(Low-E)玻璃、太阳能控制玻璃、自清洁玻璃等产品,均依赖于表面多层涂层的精确设计。这些涂层通常由金属、金属氧化物、金属氮化物及合金叠层构成,单层厚度从几纳米到几微米不等,其成分与厚度直接决定了玻璃的光学、热学及机械性能。因此,开发快速、准确的涂层剖析方法对于质量控制与工艺研发至关重要。...
MiniSIMS在电子元件表面污染分析中的应用
2026-03-10
在电子制造过程中,元器件表面的清洁度直接关系到后续涂覆、粘接、封装等工序的质量。有机残留、无机盐类等表面污染物可能导致涂层附着力下降、接触电阻增大甚至器件失效。因此,快速、准确地识别表面污染物的成分与分布,对于工艺优化和良率提升具有重要意义。二次离子质谱(SIMS)作为一种高灵敏度表面分析技术,能够在极浅表层获取元素及分子信息,近年来在电子工业质量控制中发挥着日益重要的作用。...
给芯片穿上“隐形战衣”:派瑞林镀膜如何破解微电子防护难题?
2025-09-08
在微电子与半导体技术飞速迈向小型化、三维化和高密度集成的今天,如何保护精密脆弱的芯片与电路免受湿气、腐蚀、应力的侵害,成为工程师面临的核心挑战。传统防护手段已力不从心,而一种源自半导体工艺本身的尖duan端技术——派瑞林(Parylene)气相沉积镀膜,正以其无ke可比拟的优势,成为守护芯片的“隐形铠甲”和赋能未来科技的创新工艺。...
一文读懂Parylene派瑞林镀膜技术
2025-08-22
派瑞林(Parylene),学名为聚对二甲苯,是一种完完全线性的、高度结晶化的高分子材料。它并非以液态形式存在,而是通过一种独特的真空气相沉积(Chemical Vapor Deposition, CVD) 工艺,在室温下以气态单体会聚并直接固化在被镀物体表面,形成一层超薄、均匀、无针孔、透明且具有非常好防护性能的聚合物薄膜。...
不同质量分析器的区别
2024-09-13
飞行时间二次离子质谱法是一种高效的分析技术,利用化合物的离子化过程及其质量分析,以确定待测化合物的分子量、分子式和结构特征。质谱仪作为该方法的重要组成部分,通过将离子的质量进行有效分离,并依据电荷与质量比率输出至检测器,在此被探测并转换为数字信号。...
TOF-SIMS飞行时间二次离子质谱仪离子源的选择
2024-08-28
TOF-SIMS(Time of Flight Secondary Ion Mass Spectrometry)飞行时间二次离子质谱仪的基本组件包括一次离子束,和用于样品深度剖析的离子束。主离子束被脉冲化以供飞行时间质谱仪进行分析使用。铋基液态金属离子枪(LMIGs)是商业ToF-SIMS中常用的离子源。与金等其他LMIG源相比,铋基离子源可以在较低的温度下工作,并能产生用于分析的离子簇(例如Bi3+)。...
使用TOF-SIMS(飞行时间二次离子质谱仪)进行材料研究
2024-08-26
静态TOF-SIMS是一种非常灵敏的表面分析技术,能在只消耗样品单层一小部分的情况下,获得详细的质谱图。被分析的分子来自固体表面前几层,这对于探讨材料关键区域例如附着力或催化等性质至关重要。...
飞行时间二次离子质谱的(TOF-SIMS)技术能力
2024-08-05
飞行时间二次离子质谱 (TOF-SIMS) 是一种表面分析技术,它将脉冲一次离子束聚焦到样品表面,在溅射过程中产生二次离子。分析这些二次离子可提供有关样品表面的分子、无机和元素种类的信息。...
TOF-SIMS飞行时间二次离子质谱仪-技术解读
2024-07-12
飞行时间二次离子质谱法(ToF SIMS)是一种用于研究固体表面和薄膜的三维化学组成的表面分析技术。聚焦的一次离子束轰击目标表面,产生中性原子/分子、二次离子和电子。二次离子通过飞行时间质谱仪进行收集和分析。质谱仪通过精确测量离子到达探测器所需的时间(即“飞行时间”)来测量离子的质荷比(m/z)。...
INTRODUCTION TO TOF-MS
2024-07-09
From the 20th to the 21st century, Kore personnel can claim to have been involved in most facets of the development of time-of-flight mass spectrometry. But why did we choose to focus on time-of-flight? Today’s time-of-flight mass spectrometers offer exce...
Operation Theory of PECVD
2022-04-21
In order to make the most effective use of your thin film deposition system; it is necessary to understand some of the basic parameters involved in creating thi...
Operation Theory of E-Beam Evaporation
2022-04-21
In order to make the most effective use of your thin film deposition system, it is necessary to understand some of the basic parameters involved in creating thi...

