产品快速入口：
下载产品资料SWC单晶圆/掩膜版/CMP后兆声清洗机
SWC单晶圆/掩膜版/CMP后兆声清洗机聚焦于提供最大可能性的清洗能力，使用无损兆声清洗技术，同时维持可承担的拥有成本，是性价比很高的半导体湿法清洗设备。适用于单晶圆清洗、硅片清洗、掩膜版清洗、CMP后清洗、光学玻璃清洗、光刻胶剥离清洗等经典应用。标准系统配套有各种清洗能力，化学试剂清洗、刷子清洗、兆声清洗、高转速旋转甩干带红外灯烘干和N2吹扫。
在晶圆/硅片清洗机领域，目前国际上最先进的技术，就是使用兆声清洗技术，而在兆声清洗机领域Nano-Master拥有独有的兆声清洗专利技术，其设计的兆声喷嘴运动确保兆声能量的均匀传送；因此，在晶圆表面的任何点，被传送的能量可以保持在损伤阈值以内。
- 特点
- 选配
- 应用
** 12" 外径圆片 7" x 7"方片
** 台式系统/独立式系统（SWC-4000）
** 文丘里动力真空
** 无损兆声
** 独立的化学试剂分布
** 带热氮的旋转甩干
** 微处理器控制，触摸屏编程和调用程序
** 化学试剂分布单元/4个3.8L的HDPE容器(SWC-4000)
** 双排放口分别用于酸和溶剂（SWC-4000）
** 回吸阀防止试剂滴漏（SWC-4000）
** 安全联锁
** 占地面积19”x26”
** 台式系统/独立式系统（SWC-4000）
** 文丘里动力真空
** 无损兆声
** 独立的化学试剂分布
** 带热氮的旋转甩干
** 微处理器控制，触摸屏编程和调用程序
** 化学试剂分布单元/4个3.8L的HDPE容器(SWC-4000)
** 双排放口分别用于酸和溶剂（SWC-4000）
** 回吸阀防止试剂滴漏（SWC-4000）
** 安全联锁
** 占地面积19”x26”
