• PVD物理气相沉积系统：热蒸镀、电子束蒸镀、磁控溅射
• CVD化学气相沉积系统：PECVD
• Dry Etching干法刻蚀系统：RIE，ICP，DRIE，IBE，RIBE
• Wet Etching湿法刻蚀系统：兆声无损清洗
• Growth生长系统：ALD原子层沉积、PEALD等离子增强原子层沉积、PA-MOCVD等离子辅助MOCVD
• 等离子清洗去胶系统：RF去胶、微波去胶
• 表面分析检测系统：飞行时间二次离子质谱仪TOF-SIMS
• 生物分子/聚合物/蛋白质分析系统：基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱仪 MAIDI-ToF MS
• 双系统：双腔独立系统、双腔自动传输系统、集群系统
• 器件测试系统：模拟太空环境的器件测试
• 其它测试系统和配件：等离子可控温样品台、等离子源

我们在真空、等离子、飞行时间等方面的技术能力，使得我们可以根据客户需要提供强大的定制系统，包含单片式、Cassette式自动上下片的RTP系统，PLD系统，PIII离子注入机等等。此外，我们可以把系统扩展到大尺寸的应用。

对于网站没有详细介绍的真空、等离子技术的任何关于薄膜工艺应用的设备，都欢迎咨询我们。